使用“展平貼圖”：

1. 單擊編輯器窗口的空白區(qū)域，以取消選擇所有選定 UVW 簇。

2. 在“編輯 UVW”對(duì)話框中，打開(kāi)“貼圖”菜單，并選擇“展平貼圖”。

   

   將打開(kāi)“展平貼圖”對(duì)話框。

3. 單擊“確定”接受默認(rèn)設(shè)置，并使用此自動(dòng)設(shè)置貼圖功能重新為機(jī)身設(shè)置貼圖。

   

   根據(jù)“展平貼圖”對(duì)話框中的設(shè)置，軟件將平面貼圖應(yīng)用到網(wǎng)格的每一部分。此時(shí)，編輯器顯示一個(gè)極為不同的 UVW 簇集。每個(gè)簇都包含一組連續(xù)面，相鄰面之間的角度小于或等于“展平貼圖”對(duì)話框中的“面角度閾值”設(shè)置。

   主要區(qū)別在于此處包含更多的簇，并且其中多數(shù)都小于最終貼圖中的族。機(jī)翼相對(duì)較平，因此其簇易于識(shí)別，但其他大多數(shù)簇并不容易識(shí)別。通過(guò)增加角度閾值，可以略做矯正。

   當(dāng)然，更改貼圖時(shí)，基本紋理貼圖保持不變。如果查看“透視”視口，可以看到貼圖此時(shí)與以前有較大不同。

   

4. 再次選擇“貼圖”菜單 >“展平貼圖”，為“面角度閾值”輸入 61（這是美術(shù)師在創(chuàng)建最終貼圖時(shí)第一步所使用的角度）。單擊“確定”執(zhí)行重新設(shè)置貼圖操作。

   

   結(jié)果是產(chǎn)生的簇較以前少，但仍比最終貼圖中的多。在下一過(guò)程中，將考慮組合這些簇的幾種方法。

合并 UVW 簇：

可以使用編輯器的“縫合”功能一次合并一個(gè)簇，使用修改器的“平面貼圖”命令則可以同時(shí)合并幾個(gè)簇。

1. 在視口中，選擇鼻錐體元素。

   

   這會(huì)導(dǎo)致鼻錐體幾何體使用的所有 UVW 簇在編輯器中高亮顯示。

2. 在編輯器的下部工具欄上，單擊“過(guò)濾選定面”按鈕將其啟用。

   

   此時(shí)只有高亮顯示的簇出現(xiàn)。

3. 單擊邊界框外部，以取消選擇所有對(duì)象，然后單擊其中一個(gè)較小簇上的頂點(diǎn)以選擇此簇。

   

   高亮顯示的邊和頂點(diǎn)出現(xiàn)在一個(gè)或多個(gè)其他簇上，以顯示與選定簇共享的子對(duì)象。

4. 在“工具”菜單上，選擇“縫合選定項(xiàng)”。

   

   將出現(xiàn)“縫合工具”對(duì)話框，其他簇之一將移動(dòng)至選定簇旁邊，共享的子對(duì)象“縫合”在一起。軟件自動(dòng)縫合具有最多共享子對(duì)象的簇；如果兩個(gè)或多個(gè)簇共享相同數(shù)量的子對(duì)象，則軟件會(huì)拾取頂點(diǎn) ID 編號(hào)最低的一個(gè)。在本例中，它拾取的是靠近編輯器窗口頂部的最右側(cè)簇。

5. 在該對(duì)話框中，單擊“對(duì)齊簇”復(fù)選框?qū)⑵浣�用，注意發(fā)生的變化，然后再次單擊復(fù)選框?qū)⑵鋯⒂谩?/span>

   禁用“對(duì)齊簇”后，附加的簇會(huì)移動(dòng)回其原始位置。當(dāng)自動(dòng)對(duì)齊按不希望的方式放置附加簇時(shí)（如重疊第一個(gè)簇），請(qǐng)使用此方法。

6. 單擊“確定”關(guān)閉此對(duì)話框。

   下面，將使用“平面貼圖”一次合并所有的鼻錐體簇。

7. 在視口中，選擇鼻錐體元素。

8. 在“修改”面板 >“參數(shù)”卷展欄 >“子對(duì)象參數(shù)”組中，單擊“平面貼圖”。

   

   這些簇將合并為一個(gè)簇，此簇圖形與位圖右上部分的鼻錐體紋理形狀大致相同。但此簇的方向不同于該紋理，并且大小比該紋理更大。

9. 在“編輯 UVW”對(duì)話框右下角附近，單擊“旋轉(zhuǎn) -90”按鈕以與方向匹配。

10.  使用“自由形式模式”變換工具以使該簇與鼻錐體紋理適配。拖動(dòng)邊界框的角以縮放該簇，并在邊界框內(nèi)部拖動(dòng)使其移動(dòng)。查看視口中的圖形，如果愿意，可以對(duì)其渲染。

    

    若要獲取精確匹配，還必須移動(dòng)頂點(diǎn)。可以使用“繪制頂點(diǎn)”命令略微提高匹配度，相關(guān)內(nèi)容將在下一課程中介紹。