多光子光刻3D打印微米級光子漏斗，革新光學設備設計
時間：2017-08-08 23:35 來源：天工社 作者：中國3D打印網 閱讀：次
近日，中佛羅里達大學（UCF）和德克薩斯大學（UT）的一項3D打印光子漏斗聯合研究獲得了美國國家科學基金會（NSF）的資助。在三年的時間內，NSF將為該項目提供40萬美元資金。
光子漏斗是一種微米級的格子狀結構，能改變光的集中方式。這樣的設備可能會“改變光學系統的設計”。要知道，從手機和筆記本電腦到太陽能電池板和網絡電纜的一切東西都會用到光學系統。
據介紹，光子漏斗“規避了普通光學系統的折射局限”，能利用被稱為“自準直”的光學現象來控制光在自身中的傳播。“傳感器和探測器會隨著光源的移動而喪失能量，光學設備的效率往往受限。我們將探索一種名為光子漏斗的新方法來集中光，”研究人員表示。他們正在用一種名為多光子光刻的方法來制造這種格子狀結構。
多光子光刻是一種激光3D打印工藝，與SLA相似，二者的主要區別在于多光子光刻是微米級的。它使用定向激光來從感光材料中制造出微米級對象。
“該項目將改變工程師對光學系統的設計，因為他們可以在某些應用中丟開傳統的光學元件，使用光子漏斗來集中光，”研究人員表示。
（編譯自3ders.org）
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