NANOSCRIBE推出種用于微光學的雙光子3D打印機
時間：2019-06-25 10:04 來源：中國3D打印網(wǎng) 作者：中國3D打印網(wǎng) 閱讀：次
中國3D打印網(wǎng)6月25日訊，Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統(tǒng)制造商，它推出了一種新型機器Quantum X.最新系統(tǒng)使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。
根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSO Michael Thiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制。 Quantum X采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性。我們的客戶正在微加工的最前沿工作。“
雙光子Quantum X機器。圖片：Nanoscribe。
納米3D打印
Nanoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學院，現(xiàn)在在上海設有子公司，在美國設有辦事處。該公司在德國歷史最悠久，規(guī)模最大的光學系統(tǒng)制造商之一蔡司財務的支持。納米標記系統(tǒng)基于雙光子吸收，這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過程。為了使用雙光子工藝制造3D物體，使用含有單體和雙光子活性光引發(fā)劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體，其中吸收的光的強度最高。
Nanoscribe的Photonic Professional GT在研究中得到了廣泛的應用，并在哈佛大學納米系統(tǒng)中心，加州理工學院，倫敦帝國理工學院，蘇黎世聯(lián)邦理工大學和慶應義塾大學使用。最近，據(jù)報道，Nanoscribe還加入了MiLiQuant項目，并將利用其在光子技術方面的專業(yè)知識將量子技術推向工業(yè)水平。除雙光子機器外，Nanoscribe還生產(chǎn)負性樹脂，稱為IP光樹脂。
Nanoscribe提供的一系列納米級樣品。圖像通過Nanoscribe。
3D打印衍射光學
Quantum X系統(tǒng)是在慕尼黑2019年的LASER光子世界（A3.325展位）上推出的，專門用于制造衍射光學元件（DOE）。這些微型光學器件用于材料的激光加工領域，因為DOE可以精確地控制激光的路徑和“形狀”。微光學還用于激光雷達掃描和基于激光的醫(yī)學治療。制造DOE的最常見方法之一是基于集成電路的制造過程，其可能需要多達十二個步驟。但是，使用Quantum X機器，DOE可以直接從CAD直接打印。Quantum X將是微光學，小批量生產(chǎn)和研發(fā)的快速原型設計的理想解決方案。
在Quantum X機器上打印的微透鏡陣列3D的SME圖像。圖像通過Nanoscribe。
技術規(guī)格
印刷技術雙光子灰度光刻（2GL）
最小XY尺寸160 - 200 nm（取決于使用的光致抗蝕劑）
XY分辨率400-500 nm（取決于所用的光敏素）
最佳垂直步長10 nm
掃描速度≤250mm / s
根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSO Michael Thiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制。 Quantum X采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性。我們的客戶正在微加工的最前沿工作。“
雙光子Quantum X機器。圖片：Nanoscribe。
納米3D打印
Nanoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學院，現(xiàn)在在上海設有子公司，在美國設有辦事處。該公司在德國歷史最悠久，規(guī)模最大的光學系統(tǒng)制造商之一蔡司財務的支持。納米標記系統(tǒng)基于雙光子吸收，這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過程。為了使用雙光子工藝制造3D物體，使用含有單體和雙光子活性光引發(fā)劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體，其中吸收的光的強度最高。
Nanoscribe的Photonic Professional GT在研究中得到了廣泛的應用，并在哈佛大學納米系統(tǒng)中心，加州理工學院，倫敦帝國理工學院，蘇黎世聯(lián)邦理工大學和慶應義塾大學使用。最近，據(jù)報道，Nanoscribe還加入了MiLiQuant項目，并將利用其在光子技術方面的專業(yè)知識將量子技術推向工業(yè)水平。除雙光子機器外，Nanoscribe還生產(chǎn)負性樹脂，稱為IP光樹脂。
Nanoscribe提供的一系列納米級樣品。圖像通過Nanoscribe。
3D打印衍射光學
Quantum X系統(tǒng)是在慕尼黑2019年的LASER光子世界（A3.325展位）上推出的，專門用于制造衍射光學元件（DOE）。這些微型光學器件用于材料的激光加工領域，因為DOE可以精確地控制激光的路徑和“形狀”。微光學還用于激光雷達掃描和基于激光的醫(yī)學治療。制造DOE的最常見方法之一是基于集成電路的制造過程，其可能需要多達十二個步驟。但是，使用Quantum X機器，DOE可以直接從CAD直接打印。Quantum X將是微光學，小批量生產(chǎn)和研發(fā)的快速原型設計的理想解決方案。
在Quantum X機器上打印的微透鏡陣列3D的SME圖像。圖像通過Nanoscribe。
技術規(guī)格
印刷技術雙光子灰度光刻（2GL）
最小XY尺寸160 - 200 nm（取決于使用的光致抗蝕劑）
XY分辨率400-500 nm（取決于所用的光敏素）
最佳垂直步長10 nm
掃描速度≤250mm / s
面積印刷速度為3mm2/ h，適用于衍射光學元件
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