Nanoscribe開發新型2GL微尺寸打印技術：精度更高，速度更快
時間：2023-11-15 09:24 來源：南極熊 作者：admin 閱讀：次
2023年11月14日，BICO 公司Nanoscribe推出了一種新穎的 3D
微加工技術——雙光子灰度光刻(2GL)打印技術。該技術將雙光子聚合 (2PP) 的高分辨率與獨特的專利體素調整工藝相結合，以顯著減少打印層數，使
2GL 成為最快的基于 2PP 的3D
打印技術，具有無與倫比的形狀精度和卓越的打印質量。它為新的應用鋪平了道路，例如在更短的打印時間內制造質量明顯更高、更加精細的微光學系統。3D
灰度打印現在作為 Quantum Xalign 的一項新功能提供。
△由 Printoptix 設計并由 Nanoscribe 制造的鏡頭
Nanoscribe 的Quantum X 平臺擁有雙光子灰度光刻專利技術，可用于光學級 2D 和 2.5D
微結構的增材制造，是工業制造和微光學掌握的領先解決方案。現在，Nanoscribe通過引入 2GL 3D
打印，將體素調整技術帶入三維世界，作為QuantumX Align的Aligned Two-Photon
Lithography（A2PL）功能的重要補充。
△3D
打印的 Benchy 船。左側部分是2GL 3D打印的。右側部分采用傳統的基于 2PP 的 3D
打印制成。兩個部件以完全相同的切片距離打印，從而只需要相同的打印時間。然而，使用2GL，沒有切片步驟，并且 Benchy
船的真實形狀被揭示，沒有任何與體素相關的失真。
△使用極具競爭力的
2PP 系統（左）和 2GL 3D 打印（右）進行 3D 打印的 Benchy 船的速度比較。為了獲得盡可能高的打印質量，2PP
打印船的切片距離設置為 0.1 µm（“精細”）。相比之下，同一個物體是通過2GL（“灰度”）進行 3D 打印的，其切片明顯更粗糙，為 1
µm，導致打印時間縮短了 10 倍。
精度和準確度
打印過程依賴于激光功率的實時動態調制，同時以最高速度掃描。這會導致聚合體素的精確尺寸調整，以“完美”匹配任何
3D 形狀的輪廓。2GL 的 3D 打印可保證完美的光學級表面和最精細的亞微米特征，沒有任何切片步驟或形狀扭曲，只是任何 3D
打印設計的真實形狀。
吞吐量提高高達 60 倍
2GL 3D 打印是市場上最快的基于2PP
的微加工技術之一。其動態體素調整需要更少的打印層來實現光學級、光滑和納米結構表面的打印結果。這意味著目前任何基于 2PP 的 3D
打印機都無法達到制造速度，在滿足嚴格的打印質量要求（取決于設計，與相同的打印質量相比）時，其吞吐量是替代雙光子光刻系統的 10 至 60 倍。
光子應用
2GL 的 3D 打印顯著推進了微光學制造和光子學封裝領域的技術進步。Nanoscribe的Quantum X與其配備了這種新的打印技術的Aligned 2-Photon Lithography A2PL相結合，同時支持nanoPrintX先進的對準軟件。
Quantum X
align技術是針對打印微型光學元件進行了優化，具有最高的放置精度，并在光纖和光子芯片上自動對齊。憑借全新水平的制造質量和速度，2GL 3D
打印為推進自由空間微光耦合 (FSMOC) 的工業化鋪平了道路，作為用于光子學封裝和集成的高度穩健且高效的光耦合解決方案。
(責任編輯：admin)
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